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- X-Ray Photo Electron Spectroscopy
X선광전자분광기 -
제조사(모델) Thermo Fisher Scientific(K-Alpha+) 담당자 이규한 연락처 041-580-4891 이메일 leekyuhan00@koreatech.ac.kr 호실 제1캠퍼스 산학협력관 B108호 처리기간 승인후 7일 이내
※담당자 시료 확인 후 신청승인 단계로 변경됩니다. -
직접사용 - 인정된 신청자가 직접 기기를 사용하여 분석
서비스의뢰 - 신청자가 의뢰건을 위탁분석
Tip. 급행(비용 1.5배), 장비 및 조건 선택에 상담이 필요한 경우는 담당자와 상의해 주세요.
- X-Ray Photo Electron Spectroscopy
원리 및 특성
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XPS는 표면으로부터 ~10nm 깊이까지 성분 또는 화학적 결합상태를 분석하는 장비입니다. X선을 시료에 조사하면 광전자가 방출되어 운동에너지를 분석하는 장비입니다. Li~U, 직경 30um, 깊이 1~10nm까지 ppm단위로 분석가능합니다.
1. 고체 시료 표면에 존재하는 원소 분석이 가능합니다.
2. 표면에서 1nm~수um깊이에 따른 조성변화와 화학적 상태 변화를 분석하는 Depth Profile이 가능합니다.
3. 다층박막 시료 혹은 초박막 시료도 분석 가능합니다.
4. 표면의 오염을 확인할 수 있습니다.
5. 원소의 화학적 결합상태를 알 수 있습니다.
6. 표면 원소의 분포상태를 맵핑 혹은 라인스캔으로 확인할 수 있습니다.
▶ 블로그 바로가기 : https://blog.naver.com/00811022/221192554786
규격
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-. 분석 가능 빔사이즈 : 30~400㎛
-. 분석 가능한 원소 : Li~U
-. 표면으로부터 분석 깊이 : ~10nm-. Maximum specimen dimensions : (60 X 60 X 20) mm
-. Sample Tilt : ± 90˚
-. Ultimate Energy resolution(of Ag 3d5/2 peak) : < 0.5 eV FWHM
-. Ultimate spatial resolution : < 30 ㎛. by knife edge method
-. Detector : 128-channel position sensitive detector
-. Max. Sensitivity at 1eV FWHM on Ag3d5, at 400 ㎛ : 3 000 000 cps, or higher
용도(주 시험분야)
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표면 원소의 화학적 결합상태를 알 수 있습니다.
표면에서 1nm~수um깊이에 따른 조성변화와 화학적 상태 변화를 분석하는 Depth Profile이 가능합니다.
Display (LCD, LED, OLED), 반도체, 전자재료, 이차전지, 금속, 고분자, 세라믹, 나노재료 등 다양한 분야에서 사용 가능합니다.
주의사항
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1. 뭉쳐지지않는 분말의 경우 카본(Carbon)테이프에 샘플링은 가능하지만 탄소함유량에 영향끼칠수 있음
2. 표면 오염물질과 산화막(Hydro Carbon, oxide layer)은 데이터에 영향을 미치므로, 필요시 Ar Cleaning 요구됨.
3. 특정 조건 요청시 별도 작성 요창 : X선 빔크기, 특정 원소 지정시, Detph Profile 경우 분석 깊이범위 작성
분석조건
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표면 성분분석 측정(원소 지정 가능)
스퍼터링에 의한 표면세정 여부
Depth profile 분석 깊이
Depth 원소지정
사용료
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서비스시료
구분 분석항목 단위 단가 기본료 표면의 성분분석/결합상태 확인(기본1시간) 시료 100000 옵션 표면 클리닝(etching) 전후 등 동일위치 분석횟수 추가(기본1시간) 회 50000 옵션 Depth Profile(기본2시간) point 200000 옵션 시간 추가/1시간당 시간 100000 옵션 Data fitting(데이터 분석) 건 30000
